Mataupu Faavae, Fa'agasologa, Metotia, ma Meafaigaluega mo le Fa'amamaina o Wafer

Fa'amama susu (Wet Clean) o se tasi lea o laasaga taua i le gaosiga o le semiconductor, e fa'atatau i le aveesea o mea leaga eseese mai luga o le wafer ina ia mautinoa e mafai ona faia laasaga mulimuli ane i luga o se mea mama.

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A'o fa'aauau pea ona fa'aitiitia le tele o masini semiconductor ma fa'atupula'ia mana'oga sa'o, o mana'oga fa'atekinisi o faiga fa'amama wafer ua fa'atuputeleina fa'amalosi. E o'o lava i mea laiti, mea fa'aola, iona u'amea, po'o toega oxide i luga o le fa'ato'aga e mafai ona matua a'afia ai le fa'atinoga o masini, ma a'afia ai le fua ma le fa'amaoni o masini semiconductor.

Mataupu Faavae Autu ole Faamamaina ole Wafer

O le 'autu o le fa'amamaina o le wafer o lo'o taoto i le aveesea lelei o mea leaga eseese mai luga o le wafer e ala i le tino, vailaʻau, ma isi auala e faʻamautinoa ai o loʻo i ai i le wafer se mea mama e talafeagai mo le gaioiga mulimuli ane.

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Ituaiga Fa'aleagaina

A'afiaga Autu ile uiga ole masini

mataupu Fa'aleagaina  

Fa'aletonu mamanu

 

 

Fa'aletonu o lo'o fa'apipi'iina ion

 

 

Fa'aletonu le malepe o ata tifaga

 

Fa'ameamea Metala Alkali  

MOS transistor le mautu

 

 

Gate oxide ata tifaga malepe/fa'aleagaina

 

Metala mamafa  

Fa'atuputeleina PN so'oga fa'afo'i le leakage nei

 

 

Gate oxide film malepe faaletonu

 

 

E to'aitiiti le avefe'au i le olaga fa'aleagaina

 

 

Fa'atupu fa'aletonu o le vaega o le okesene

 

Fa'aleagaina o vaila'au Mea Fa'aletino  

Gate oxide film malepe faaletonu

 

 

Su'ega ata tifaga CVD (taimi fa'ato'a)

 

 

Fesuia'iga mafiafia ata tifaga vevela vevela (fa'ave'esea fa'avave)

 

 

O lo'o tupu le puao (wafer, tioata, fa'ata, matapulepule, mata'itusi)

 

Fa'a'au'au To'ona (B, P)  

MOS transistor Vth suiga

 

 

Si substrate ma le maualuga tete'e poly-silikon pepa tetee fesuiaiga

 

Fa'avae fa'aletino (amine, ammonia) & Aisa (SOx)  

Fa'aleagaina o le fa'ai'uga o fa'a'ese'ese fa'a kemikolo

 

 

Fa'atupuina o le fa'aleagaina ma le puaoa ona o le masima

 

Ata Ata Ata Fa'alenu'u ma Vailaau Fa'asao Ona o le Susū, Ea  

Faʻateleina le faʻafesoʻotaʻi tetee

 

 

Gate oxide ata tifaga malepe/fa'aleagaina

 

Aemaise lava, o faʻamoemoega o le faʻamamaina o fafie e aofia ai:

Ave'esea o Masini: Fa'aaogā metotia fa'aletino po'o vaila'au e aveese ai ni vaega laiti o lo'o pipi'i i luga ole la'au mama. O vaega laiti e sili atu ona faigata ona aveese ona o le malosi eletise eletise i le va oi latou ma luga o le wafer, e manaʻomia ai togafitiga faʻapitoa.

Ave'esea Mea Fa'aletino: O mea fa'alenatura e pei ole ga'o ma toega photoresist e mafai ona pipii i luga ole fa'aeleele. O nei mea leaga e masani lava ona aveese e ala i le faʻaaogaina o vailaʻau faʻamaʻi malosi poʻo solvents.

Ave'esea o Ion uamea: O toega u'amea i luga ole la'au wafer e mafai ona fa'aleagaina ai le eletise ma e o'o lava ina a'afia ai la'asaga mulimuli ane. O le mea lea, e fa'aaogaina vaila'au fa'apitoa e aveese ai nei ion.

Ave'esea o Oxide: O nisi faiga e mana'omia ai le sa'olotoga o luga ole vai mai fa'a'ese'ese, pei ole oxide silicon. I ia tulaga, e mana'omia ona aveese fa'alava fa'alenatura i le taimi o nisi la'asaga fa'amama.

O le lu'itau o tekinolosi fa'amama mama o lo'o taoto i le aveeseina lelei o mea leaga e aunoa ma le a'afiaina o le fata, e pei o le puipuia o le maaa, pala, po'o isi mea fa'aleagaina.

2. Fa'amama Fa'amama Fa'asolo

O le fa'amama fa'amama e masani lava ona aofia ai le tele o la'asaga e fa'amautinoa ai le aveesea atoatoa o mea fa'aleagaina ma maua ai le mama atoatoa.

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Ata: Fa'atusatusaga i le Va o Tulaga Tulaga ma le Fa'amama Tasi-Wafer

O le fa'amama fa'amama fa'amasani e aofia ai la'asaga autu nei:

1. Fa'amama (Mu'ai Fa'amama)

O le faʻamoemoega o le faʻamamaina muamua o le aveese lea o mea leaga ma mea tetele mai luga o le wafer surface, lea e masani lava ona ausia e ala i vai faʻafefeteina (DI Water) fufuluina ma faʻamamaina ultrasonic. O le vai fa'a-deion e mafai ona aveese muamua ni mea'ai ma fa'amavaeina mea leaga mai luga o le wafer surface, a'o fa'aogaina e le fa'amama ultrasonic a'afiaga o le cavitation e motusia ai le sootaga i le va o vaega ma le wafer surface, ma fa'afaigofie ai ona fa'ate'a.

2. Fa'amama vaila'au

O le fa'amamāina o vaila'au o se tasi lea o la'asaga autu i le fa'amamāina o le fa'amama, fa'aaogaina o vaifofo vaila'au e aveese ai mea fa'aola, ion u'amea, ma oxides mai luga o le wafer.

Ave'esea Mea Fa'aletino: E masani lava, o le acetone po'o le fa'afefiloi o le ammonia/peroxide (SC-1) e fa'aaogaina e fa'amuta ma fa'ama'i'ese ai mea fa'aleaga. Ole fua fa'atatau mo SC-1 fofo ole NH₄OH

₂O₂

₂O = 1:1:5, ma le vevela galue e tusa ma le 20°C.

Ave'esea o Ion uamea: O fa'afefiloiga fa'afefiloi o le nitric acid po'o le fa'afefiloi ole vai/peroxide (SC-2). Ole fua fa'atatau mo SC-2 fofo ole HCl

₂O₂

₂O = 1:1:6, faatasi ai ma le vevela e faatumauina pe tusa o le 80°C.

Ave'esea o Oxide: I nisi faiga, e mana'omia le aveeseina o le fa'afu'e o le oxide fa'aletino mai le fa'aele'ele, lea e fa'aogaina ai le vaifofo o le hydrofluoric acid (HF). Ole fua fa'atatau mo fofo HF ole HF

₂O = 1:50, ma e mafai ona faʻaaogaina i le vevela o le potu.

3. Mama Mulimuli

A mae'a le fa'amamāina o vaila'au, e masani lava ona faia se la'asaga fa'amama fa'ai'u e fa'amautinoa ai e leai ni toega vaila'au e tumau i luga. Fa'amama fa'au'u e fa'aaoga tele le vai fa'a'ona mo le fufulu mae'ae'a. E le gata i lea, o le fa'amamāina o le vai o le osone (O₃/H₂O) e fa'aaogaina e fa'amama atili ai so'o se mea o totoe o lo'o totoe mai luga o le fafie.

4. Fa'agogo

E tatau ona fa'amago vave le fa'amama fa'amama ina ia puipuia ai fa'ailoga vai po'o le toe fa'apipi'i o mea leaga. O auala masani fa'agogo e aofia ai le fa'amamago ma le fa'amamāina o le nitrogen. O le mea muamua e aveese ai le susu mai luga o le papa mafolafola e ala i le milo i luga o le saosaoa maualuga, ae o le mea mulimuli e faʻamautinoa le faʻamago atoatoa e ala i le feulaina o le kasa faʻamago o le nitrogen i luga o le luga o le wafer.

Fa'aleaga

Fa'amamā Igoa

Fa'amatalaga Fa'afefiloi Vailaau

vaila'au

       
fasimea Piranha (SPM) Sulfuric acid/hydrogen peroxide/DI vai H2SO4/H2O2/H2O 3-4:1; 90°C
SC-1 (APM) Ammonium hydroxide/hydrogen peroxide/DI vai NH4OH/H2O2/H2O 1:4:20; 80°C
Metala (e le kopa) SC-2 (HPM) Suavai fa'ama'i/hydrogen peroxide/DI vai HCl/H2O2/H2O1:1:6; 85°C
Piranha (SPM) Sulfuric acid/hydrogen peroxide/DI vai H2SO4/H2O2/H2O3-4:1; 90°C
DHF Fa'asusu le vai fa'afefete hydrofluoric/DI (e le aveesea ai le kopa) HF/H2O1:50
Organics Piranha (SPM) Sulfuric acid/hydrogen peroxide/DI vai H2SO4/H2O2/H2O 3-4:1; 90°C
SC-1 (APM) Ammonium hydroxide/hydrogen peroxide/DI vai NH4OH/H2O2/H2O 1:4:20; 80°C
DIO3 Osone i vai fa'a'ona O3/H2O Fa'afefiloi Lelei
Okesene Fa'alenuu DHF Fa'asusu vai hydrofluoric/DI HF/H2O 1:100
BHF Fa'asa'o fa'afefete hydrofluoric acid NH4F/HF/H2O

3. Metotia Fa'amamaina masani o le Wafer

1. RCA Fa'amamaina Metotia

Ole auala fa'amama a le RCA o se tasi lea o auala fa'amama fa'amama fa'amama i totonu ole alamanuia semiconductor, na atia'e e le RCA Corporation ile 40 tausaga talu ai. O lenei metotia e masani ona faʻaaogaina e aveese ai mea faʻaleagaina o meaola ma mea eleelea uamea ma e mafai ona faʻamaeʻaina i laasaga e lua: SC-1 (Standard Clean 1) ma le SC-2 (Standard Clean 2).

SC-1 Fa'amamaina: O lenei la'asaga e masani ona fa'aoga e aveese ai mea fa'aleaga ma vaega. Ole vaifofo ole fa'afefiloi ole ammonia, hydrogen peroxyide, ma le vai, lea e fai ai se fa'amea manifinifi silicon oxide i luga o le fa'aele'ele.

SC-2 Fa'amamāina: O lenei la'asaga e fa'aaoga muamua e aveese ai mea fa'aleagaina o ion u'amea, e fa'aaoga ai le fa'afefiloi ole hydrochloric acid, hydrogen peroxide, ma le vai. E tu'u ai se mea manifinifi passivation i luga o le fa'aele'ele papa'i e puipuia ai le toe fa'aleagaina.

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2. Piranha Clean Method (Piranha Etch Clean)

O le auala e fa'amama ai le Piranha o se auala sili ona aoga mo le aveeseina o mea fa'aola, e fa'aaoga ai le fa'afefiloi o le sulfuric acid ma le hydrogen peroxide, e masani lava ile fua ole 3:1 po'o le 4:1. Ona o le malosi tele o mea faʻamaʻi o lenei fofo, e mafai ona aveese le tele o mea faʻalaʻau ma mea faʻamaʻa. O lenei metotia e manaʻomia ai le pulea lelei o tulaga, aemaise lava i tulaga o le vevela ma le faʻaogaina, e aloese ai mai le faaleagaina o le wafer.

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O le fa'amamaina ole Ultrasonic e fa'aaogaina ai le cavitation effect e fa'atupuina e galu o leo maualuga i totonu o se vai e aveese ai mea leaga mai luga o le wafer. Pe a faatusatusa i le faamamaina o le ultrasonic masani, o le faamamaina o le megasonic e galue i se taimi maualuga atu, e mafai ai ona sili atu le lelei o le aveeseina o vaega laiti-micron-sized e aunoa ma le afaina ai o le wafer surface.

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4. Fa'amamaina ole Osone

E fa'aogaina e tekinolosi fa'amama o le osone le malosi fa'ama'i fa'ama'i o le osone e fa'apala ma aveese ai mea fa'a'ala'au mai luga ole vai, ma i'u ai ina fa'aliliuina ile kaponi ma vai e le afaina. O lenei metotia e le manaʻomia ai le faʻaaogaina o vailaʻau faʻamaʻi taugata ma mafua ai le faʻaitiitia o le faʻaleagaina o le siosiomaga, ma avea ai ma tekonolosi faʻalauiloa i le fanua o le fufulu mama.

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4. Meafaigaluega Fa'amama Fa'amama

Ina ia faʻamautinoa le lelei ma le saogalemu o faiga faʻamama mama, o loʻo faʻaaogaina meafaigaluega faʻamama faʻapitoa i le gaosiga o semiconductor. O ituaiga autu e aofia ai:

1. Mea Fa'amama Susū

O meafaigaluega fa'amama susu e aofia ai tane fa'atofu eseese, tane fa'amama ultrasonic, ma fa'amago vili. O nei masini e tu'ufa'atasia ai malosiaga fa'ainisinia ma vaila'au fa'ama'i e ave'ese ai mea leaga mai luga o le vai. O tane fa'atofu e masani ona fa'apipi'iina i faiga e pulea ai le vevela e fa'amautinoa ai le mautu ma le aoga o vaifofo vaila'au.

2. Meafaigaluega Fa'amago

O mea fa'amama mamago e masani lava ona aofia ai le fa'amama plasma, lea e fa'aogaina ai le malosi maualuga i totonu o le plasma e tali atu ai ma aveese toega mai luga o le wafer. O le fa'amamāina o le plasma e sili ona talafeagai mo faiga e mana'omia ai le fa'atumauina o le fa'amaoni i luga ole laiga e aunoa ma le fa'aofiina o vaila'au o totoe.

3. Faiga Fa'amama Fa'atometi

Faatasi ai ma le faʻaauau pea o le faʻalauteleina o le gaosiga o le semiconductor, o faiga faʻamama faʻaautomatika ua avea ma filifiliga sili mo le faʻamamaina o faʻamaʻi tele. O nei faiga e masani ona aofia ai masini fa'a'oto'oto, faiga fa'amama tele-tank, ma faiga fa'atonu sa'o e fa'amautinoa ai taunu'uga fa'amama mo ta'itasi.

5. Tulaga i le Lumanai

A'o fa'aauau pea le fa'aitiitia o masini semiconductor, o lo'o fa'atupuina le tekonolosi fa'amama wafer i ni fofo sili atu ona lelei ma fa'alelei le si'osi'omaga. O tekinolosi fa'amama i le lumana'i o le a taula'i i:

Ave'esega Fa'aliga Laiti: O tekinolosi fa'amama o lo'o i ai nei e mafai ona fa'atautaia vaega fa'a nanometer-scale, ae fa'atasi ai ma le fa'aitiitiga atili i le tele o masini, o le a avea ma lu'itau fou le aveeseina o vaega laiti-nanometer.

Fa'amama Green ma Eco-friendly: Fa'aitiitia le fa'aogaina o vaila'au fa'aleagaina o le si'osi'omaga ma le fa'atupuina atili o auala fa'amama fa'alelei, e pei o le fa'amama o le osone ma le fa'amama megasonic, o le a fa'ateleina le taua.

Tulaga Maualuga o le Automation ma le Atamai: O faiga faʻapitoa e mafai ai ona mataʻituina le taimi moni ma fetuunaiga o taʻiala eseese i le taimi o le faʻamamaina, faʻaleleia atili le faʻamamaina lelei ma le gaosiga lelei.

Tekinolosi fa'amama mama, e avea o se laasaga taua i le gaosiga o le semiconductor, e taua tele le sao i le fa'amautinoaina o le mama mama o luga o le fafie mo gaioiga mulimuli ane. O le tu'ufa'atasiga o metotia fa'amama eseese e fa'amama lelei ai mea fa'aleagaina, maua ai se fa'amama mama mo isi laasaga. A'o aga'i i luma tekinolosi, o le a fa'aauau pea ona fa'atumauina faiga fa'amama e fa'afetaui ai mana'oga mo le sa'o maualuga ma le fa'aitiitia o fa'aletonu ile gaosiga ole semiconductor.


Taimi meli: Oke-08-2024