O le fa'atupuina o se fa'aopoopoga fa'aopoopo o atigi silikoni i luga o se su'ega wafer silicon e tele mea lelei:
I le CMOS silicon process, epitaxial growth (EPI) i luga o le wafer substrate o se laasaga taua tele.
1, Faʻaleleia le tulaga tioata
Fa'aletonu ma mea le mama muamua: I le faagasologa o le gaosiga, atonu e iai ni faaletonu ma ni mea le mama o le mea'ai wafer. O le tuputupu aʻe o le epitaxial layer e mafai ona maua ai se tulaga maualuga monocrystalline silicon layer faʻatasi ai ma le maualalo o faʻalavelave faʻaletonu ma mea le mama i luga o le substrate, lea e taua tele mo le gaosiga o masini mulimuli ane.
Faiga tioata tutusa: O le tuputupu aʻe o le Epitaxial e faʻamautinoaina se fausaga tioata e sili atu ona tutusa, faʻaitiitia le aʻafiaga o tuaoi o saito ma faʻaletonu i le mea e fai ai le substrate, ma faʻaleleia ai le tulaga maualuga o le tioata o le wafer.
2, faʻaleleia le faʻatinoina o le eletise.
Fa'amalieina uiga o masini: E ala i le fa'atupuina o se epitaxial layer i luga o le substrate, o le doping concentration ma le ituaiga o silicon e mafai ona fa'atonu sa'o, fa'amalieina le fa'aogaina o le eletise o le masini. Mo se faʻataʻitaʻiga, o le doping o le epitaxial layer e mafai ona fetuunaʻi lelei e faʻatonutonu ai le laina eletise o MOSFET ma isi mea eletise.
Faʻaitiitia le leakage o loʻo i ai nei: O le maualuga o le epitaxial layer o loʻo i ai se faʻaletonu maualalo, lea e fesoasoani e faʻaitiitia ai le tafe i totonu o masini, ma faʻaleleia atili ai le faʻaogaina o masini ma le faʻamaoni.
3, faaleleia le faatinoga o le eletise.
Fa'aiti'itia le Tele o Fa'aaliga: I la'ititi fa'agasologa o nodes (pei o le 7nm, 5nm), o lo'o fa'aauau pea ona fa'aitiitia le tele o masini, e mana'omia ai mea e sili atu ona fa'amama ma maualuga. Epitaxial tuputupu aʻe tekinolosi e mafai ona ausia nei manaʻoga, lagolagoina le gaosiga o le maualuga-faatinoga ma le maualuga-density integrated circuits.
Faʻaleleia Voltage Breakdown: Epitaxial layers e mafai ona faʻatulagaina faʻatasi ai ma le maualuga o voltage malepelepe, lea e taua tele mo le gaosiga o masini maualuga ma maualuga-voltage. Mo se faʻataʻitaʻiga, i masini eletise, epitaxial layers e mafai ona faʻaleleia ai le eletise gau o le masini, faʻateleina le saogalemu o le faʻaogaina.
4, Fa'agasologa Felagolagoma'i ma fa'aputuga fa'aopoopo
Fa'asologa Fa'atele: Fa'atekonolosi tuputupu a'e epitaxial e mafai ai ona fa'atuputeleina fausaga fa'apipi'i i luga o substrate, fa'atasi ai ma laulau 'ese'ese o lo'o iai le eseesega o fa'atonuga ma ituaiga o doping. E sili ona aoga lenei mea mo le gaosiga o masini CMOS lavelave ma mafai ai ona tuʻufaʻatasia tolu-dimensional.
Fesoʻotaʻiga: O le faʻagasologa o le tuputupu aʻe o le epitaxial e matua fetaui lelei ma le gaosiga o gaosiga o le CMOS o loʻo iai, e faigofie ai ona tuʻufaʻatasia i totonu o galuega gaosiga o loʻo iai nei e aunoa ma le manaʻomia o ni suiga tetele i laina faʻagasologa.
Aotelega: O le faʻaogaina o le tuputupu aʻe o le epitaxial i le CMOS silicon process e faʻamoemoe e faʻaleleia le lelei o le tioata, faʻamalieina le faʻaogaina o le eletise, lagolago faʻasolosolo faʻagasologa, ma faʻafetaui manaʻoga o le gaosiga maualuga ma le maualuga o le gaosiga. Epitaxial tuputupu aʻe tekinolosi e mafai ai mo le pulea saʻo o mea doping ma fausaga, faʻaleleia le faʻatinoga atoa ma le faʻamaoni o masini.
Taimi meli: Oke-16-2024