SiC Ceramic Tray mo le Wafer Carrier ma le Tete'e i le Vevela Maualuga
Fata Seramika Silicon Carbide (Fata SiC)
O se vaega seramika maualuga le faatinoga e faavae i luga o le silicon carbide (SiC), ua mamanuina mo galuega tau alamanuia fa'aonaponei e pei o le gaosiga o semiconductor ma le gaosiga o LED. O ana galuega autu e aofia ai le avea o se avega o le wafer, fa'avae o le fa'agasologa o le etching, po'o le lagolago o le fa'agasologa o le vevela maualuga, fa'aaogaina le fa'avevela lelei, tete'e atu i le vevela maualuga, ma le mautu o vaila'au e fa'amautinoa ai le tutusa o le fa'agasologa ma le maua mai o oloa.
Vaega Autū
1. Fa'atinoga o le Vevela
- Fa'avevela Maualuga: 140–300 W/m·K, e sili atu nai lo le karapite masani (85 W/m·K), e mafai ai ona vave fa'aumatia le vevela ma fa'aitiitia ai le fa'alavelave fa'avevela.
- Fa'asologa Maualalo o le Fa'alauteleina o le Vevela: 4.0×10⁻⁶/℃ (25–1000℃), e tutusa lelei le silicon (2.6×10⁻⁶/℃), e fa'aitiitia ai lamatiaga o le fa'aleagaina o le vevela.
2. Meatotino Fa'amekanika
- Malosi Maualuga: Malosi fa'apipi'i ≥320 MPa (20℃), tete'e i le fa'apipi'i ma le pa'i.
- Malō Maualuga: Mohs hardness 9.5, lona lua i le taimane, e ofoina atu le tete'e sili atu i le ofuina.
3. Mausali o le Fa'akemikolo
- Tete'e i le 'Ele: Tete'e i 'ese'esega malolosi (e pei o le HF, H₂SO₄), talafeagai mo siosiomaga o le faiga o le vaneina.
- E lē fa'amaneta: E ono a'afia i le fa'amaneta totonu <1×10⁻⁶ emu/g, ma 'alofia ai le fa'alavelave i meafaigaluega sa'o.
4. Onosaʻi Tele i le Siosiomaga
- Tumau i le Vevela Maualuga: Vevela fa'agaoioia mo se taimi umi e o'o atu i le 1600–1900℃; tete'e pu'upu'u e o'o atu i le 2200℃ (si'osi'omaga e leai se okesene).
- Tete'e atu i le Te'i Fa'avevela: Talosia suiga fa'afuase'i o le vevela (ΔT >1000℃) e aunoa ma le māvaevae.
Talosaga
| Matāgaluega o Talosaga | Faʻaaliga Faʻapitoa | Taua Fa'atekinolosi |
| Gaosiga o Semiconductor | Fa'a'ofuina o le Wafer (ICP), fa'aputuina o ata manifinifi (MOCVD), fa'apala'au CMP | O le maualuga o le fa'avevela e fa'amautinoa ai le tutusa o le vevela o le fanua; o le maualalo o le fa'alauteleina o le vevela e fa'aitiitia ai le pi'o o le wafer. |
| Gaosiga o le LED | Tuputupu a'e o le epitaxial (e pei o le GaN), tipiina o le wafer, afifiina | Taofiofia ai fa'aletonu eseese o ituaiga, fa'aleleia atili ai le lelei o le pupula ma le umi e ola ai le LED. |
| Alamanuia o le Photovoltaic | Ogaumu fa'asu'i o le silicone wafer, lagolago o meafaigaluega PECVD | O le tete'e atu i le vevela maualuga ma le te'i fa'avevela e fa'aumiumi ai le umi e ola ai le masini. |
| Leisa ma Optika | Mea fa'amālūlūina leisa malosi maualuga, lagolago o le faiga opitika | O le maualuga o le fa'avevela e mafai ai ona vave fa'ata'ape'apeina le vevela, ma fa'amautu ai vaega opitika. |
| Meafaigaluega Su'esu'ega | O lo'o i ai ni mea e uu ai fa'ata'ita'iga a le TGA/DSC | O le maualalo o le gafatia o le vevela ma le vave o le tali atu i le vevela e faʻaleleia atili ai le saʻo o le fuaina. |
Fa'amanuiaga o le Gaosiga
- Fa'atinoga Atoatoa: O le malosi e fa'avevela ai, tete'e atu ai i le 'ele, e sili atu nai lo le alumina ma le silicon nitride ceramics, ma fa'amalieina ai mana'oga fa'atino tetele.
- Fuafuaga Mama: Mafiafia o le 3.1–3.2 g/cm³ (40% o u'amea), e fa'aitiitia ai le avega inertial ma fa'aleleia atili ai le sa'o o le gaioiga.
- Umi Umi ma le Faʻatuatuaina: E sili atu i le 5 tausaga le umi o le tautua i le 1600 ℃, e faʻaitiitia ai le taimi e le faʻaaogaina ai ma faʻaitiitia ai tau o faʻagaioiga e le 30%.
- Fa'apitoa: Lagolagoina ni foliga faigata (e pei o ipu suction porous, fata e tele-vaega) ma le sese o le lamolemole <15 μm mo fa'aoga sa'o.
Faʻamatalaga Faʻapitoa
| Vaega o le Parakalafa | Fa'ailoga |
| Meatotino Fa'aletino | |
| Mafiafia | ≥3.10 kalama/cm³ |
| Malosiaga Fa'alava (20 ℃) | 320–410 MPa |
| Fa'avevela (20 ℃) | 140–300 W/(m·K) |
| Fa'asologa o le Fa'alauteleina o le Vevela (25–1000 ℃) | 4.0×10⁻⁶/℃ |
| Meatotino Fa'akemikolo | |
| Tete'e atu i le 'Aseta (HF/H₂SO₄) | Leai se ele pe a uma ona fa'asusu i le vai i le 24 itula |
| Sa'o lelei o le fa'aaogaina o masini | |
| Mafolafola | ≤15 μm (300×300 mm) |
| Ma'ale'ale o le fogā'ele'ele (Ra) | ≤0.4 μm |
Auaunaga a le XKH
E tuʻuina atu e le XKH ni fofo faʻapisinisi atoatoa e aofia ai le atinaʻeina faʻapitoa, masini saʻo, ma le pulea lelei o le lelei. Mo le atinaʻeina faʻapitoa, e ofoina atu ni fofo mama maualuga (>99.999%) ma porous (30–50% porosity) o meafaitino, faʻatasi ai ma le 3D modeling ma le simulation e faʻaleleia atili ai geometries faigata mo faʻaoga e pei o semiconductors ma aerospace. O le masini saʻo e mulimuli i se faiga faigofie: faʻagasologa o le pauta → isostatic/dry pressing → 2200°C sintering → CNC/diamond grinding → inspection, faʻamautinoa le polishing nanometer-level ma le ±0.01 mm dimensional tolerance. O le puleaina o le lelei e aofia ai le suʻega atoa o le faagasologa (XRD composition, SEM microstructure, 3-point bending) ma le lagolago faʻapitoa (faʻaleleia atili o le faagasologa, feutagaiga 24/7, tuʻuina atu o faʻataʻitaʻiga 48-itula), tuʻuina atu vaega faʻatuatuaina ma maualuga le faʻatinoga mo manaʻoga faʻapisinisi faʻaonaponei.
Fesili e Masani Ona Fesiligia (FAQ)
1. F: O a pisinisi e faʻaaogaina fata seramika silicon carbide?
A: E fa'aaogaina lautele i le gaosiga o semiconductor (taulimaina o wafer), malosiaga o le la (fa'agasologa o le PECVD), masini fa'afoma'i (vaega o le MRI), ma le aerospace (vaega e maualuga le vevela) ona o lo latou tete'e tele i le vevela ma le mautu o vaila'au.
2. F: E faapefea ona sili atu le lelei o le silicon carbide nai lo le quartz/glass trays?
A: Tete'e maualuga atu i le te'i vevela (e o'o atu i le 1800°C pe a fa'atusatusa i le kuata e 1100°C), leai se fa'alavelave fa'amagnetika, ma umi atu le ola (5+ tausaga pe a fa'atusatusa i le kuata e 6-12 masina).
3. F: E mafai e fata silicon carbide ona taulimaina siosiomaga 'o'ona?
A: Ioe. E tete'e i le HF, H2SO4, ma le NaOH ma le <0.01mm le ele/tausaga, ma avea ai ma mea lelei mo le vaneina o vaila'au ma le fa'amamāina o le wafer.
4. F: E fetaui lelei fata silicon carbide ma le otometi?
A: Ioe. Fuafuaina mo le pikiina o le vacuum ma le taulimaina e le robot, faatasi ai ma le lamolemole o le fogaeleele <0.01mm e puipuia ai le faaleagaina o vaega laiti i totonu o masini otometi.
5. F: O le a le faʻatusatusaga o le tau ma meafaitino masani?
A: Tau maualuga atu i le amataga (3-5x kuata) ae 30-50% maualalo le TCO ona o le umi o le ola, fa'aitiitia le taimi e fa'agaoioi ai, ma le sefeina o le malosi mai le maualuga o le fa'atinoina o le vevela.
