6inch SiC Epitaxiy wafer N/P ituaiga talia customized

O le faagasologa o sauniuniga o le silicon carbide epitaxial wafer o se metotia e faʻaaogaina ai le vailaʻau Vapor Deposition (CVD) tekinolosi. O lo'o mulimuli mai ta'iala fa'atekinisi talafeagai ma la'asaga o le fa'agasologa o sauniuniga:

mataupu faavae fa'apitoa:

Fua Fa'ama'i Vailaau: Fa'aaogāina o le kesi mea mata'utia i le vaega o le kesi, i lalo o tulaga fa'apitoa e tali atu ai, e fa'apala ma fa'aputu i luga o le mea'ai e fai ai le ata manifinifi mana'omia.

Fa'asagaga o le kasa: E ala i le pyrolysis po'o le ta'e tali, o mea eseese kasa o lo'o i totonu o le vaega o le kesi e suia fa'alekemiki i totonu o le potu tali.

Laasaga o sauniuniga:

Togafitiga o le eleele: O le mea'ai e tu'uina atu i le fa'amamāina o luga ma le fa'agasologa muamua ina ia mautinoa le lelei ma le tioata o le epitaxial wafer.

Debugging potu tali: fetuutuunai le vevela, mamafa ma le tafe o le potu tali ma isi taʻiala e faʻamautinoa ai le mautu ma le pulea o tulaga faʻaalia.

Tuuina atu o meafaitino: tuʻuina atu le kesi manaʻomia mea mataʻutia i totonu o le potu tali, faʻafefiloi ma pulea le tafe pe a manaʻomia.

Fa'agasologa o tali: E ala i le fa'avevelaina o le potu tali, o le mea'ai kasa o lo'o fa'auluina se gaioiga fa'a-kemikolo i totonu o le potu e maua ai le fa'aputuga mana'omia, e pei o le silicon carbide film.

Fa'alili ma la'u ese: I le fa'ai'uga o le tali, e faasolosolo malie lava ona tu'u i lalo le vevela e fa'amalie ma fa'amausali ai fa'aputuga i totonu o le potu tali.

Epitaxial wafer annealing ma post-processing: o le epitaxial wafer na teuina ua faʻapipiʻiina ma maeʻa ona faʻaogaina e faʻaleleia ai ona eletise ma mea faʻapitoa.

O laʻasaga maʻoti ma tulaga o le faʻasologa o sauniuniga epitaxial epitaxial silicon e mafai ona fesuisuiaʻi e faʻatatau i meafaigaluega ma mea e manaʻomia. O loʻo i luga e naʻo se faʻagasologa masani faʻasolosolo ma mataupu faavae, o le gaioiga faʻapitoa e manaʻomia ona fetuunai ma faʻaleleia e tusa ai ma le tulaga moni.