O le lima e fa'aaogaina ai le pito i luga o le keramika SiC mo le fa'aaogaina o le wafer

O le lima e fa'aaogaina ai le pito i luga o le seramika SiC mo le fa'aaogaina o le wafer Ata Fa'aalia

Fa'amatalaga Pupuu:

O LiNbO₃ Wafers o loʻo faʻatusalia ai le tulaga auro i le photonics tuʻufaʻatasia ma le saʻo o le acoustics, e tuʻuina atu ai le faʻatinoga e le mafaatusalia i faiga optoelectronic faʻaonaponei. I le avea ai ma se kamupani gaosi oloa taʻimua, ua matou faʻaleleia atili le tomai o le gaosia o nei mea faʻainisinia e ala i metotia faʻapitoa o le faʻapaleniina o felauaiga o le ausa, ma ausia ai le atoatoa o le crystalline e sili ona taʻimua i le alamanuia ma le mafiafia o mea sese i lalo ifo o le 50/cm².

O gafatia o le gaosiga o le XKH e aofia ai le lautele mai le 75mm i le 150mm, faatasi ai ma le pulea sa'o o le fa'atulagaina (X/Y/Z-cut ±0.3°) ma filifiliga fa'apitoa o le doping e aofia ai elemene seasea. O le tu'ufa'atasiga tulaga ese o meatotino i totonu o LiNbO₃ Wafers - e aofia ai le latou r₃₃ coefficient mata'ina (32±2 pm/V) ma le lautele o le manino mai le lata i le UV i le ogatotonu o le IR - e avea ai ma mea taua mo le isi tupulaga o matagaluega photonic ma masini leo maualuga.

Auina mai se imeli ia i matou

Fa'aaliga

O le mea e fa'agaoioi ai le pito i luga o le seramika SiC

O le SiC (Silicon Carbide) ceramic end-effector o se vaega taua tele i faiga fa'afoe wafer maualuga-sa'o e fa'aaogaina i le gaosiga o semiconductor ma siosiomaga fa'atekonolosi fa'atekonolosi. Ua mamanuina e fa'afetaui mana'oga faigata o siosiomaga mama tele, vevela maualuga, ma mautu tele, o lenei end-effector fa'apitoa e fa'amautinoa ai le felauaiga fa'atuatuaina ma le leai o se fa'aleagaina o wafers i la'asaga taua o le gaosiga e pei o le lithography, etching, ma le deposition.

I le fa'aaogaina o meatotino sili ona lelei o le silicon carbide—e pei o le maualuga o le conductivity o le vevela, le ma'a'a tele, le lelei tele o le inertness o vaila'au, ma le la'ititi o le fa'alauteleina o le vevela—o le SiC ceramic end-effector e ofoina atu le malosi fa'amekanika e le mafaatusalia ma le mautu o le fua e tusa lava pe i lalo o le vave o le taamilosaga o le vevela po'o totonu o potu fa'agasologa o le 'ele'elea. O ona uiga maualalo o le gaosia o vaega ma le tete'e atu i le plasma e matua'i fetaui lelei mo fa'aoga fa'agasologa o potu mama ma le vacuum, lea e sili ona taua ai le tausia o le tulaga lelei o le wafer surface ma le fa'aitiitia o le fa'aleagaina o vaega.

Fa'aoga o le SiC ceramic end effector

1. Taulimaina o le Semiconductor Wafer

E fa'aaogaina lautele ia mea e fa'aaogaina ai le SiC ceramic end effectors i le alamanuia semiconductor mo le taulimaina o silicon wafers i le taimi o le gaosiga otometi. O nei mea e fa'aaogaina ai le SiC end effectors e masani ona fa'apipi'i i luga o lima robotic po'o masini fa'aliliuina o le vacuum ma ua mamanuina e fa'afetaui ai wafers o lapopo'a eseese e pei o le 200mm ma le 300mm. E taua tele i faiga e aofia ai le Chemical Vapor Deposition (CVD), Physical Vapor Deposition (PVD), etching, ma le diffusion—lea e masani ai ona maualuga le vevela, tulaga o le vacuum, ma kasa 'ele'elea. O le tete'e atu o le SiC i le vevela ma le mautu fa'akemikolo e avea ai ma mea lelei e tete'e atu ai i ni siosiomaga faigata e aunoa ma le fa'aleagaina.

2. Fetaui i le Cleanroom ma le Vacuum

I totonu o potu mama ma nofoaga e fa'amama ai le ea, lea e tatau ai ona fa'aitiitia le fa'aleagaina o vaega laiti, e ofoina atu e keramika SiC ni fa'amanuiaga taua. O le laualuga mafiafia ma lamolemole o le meafaitino e tete'e atu i le gaosia o vaega laiti, e fesoasoani e fa'atumauina le tumau o le wafer i le taimi o felauaiga. O lenei mea e matua fetaui lelei ai mea e fa'atino ai le pito i tua o le SiC mo faiga taua e pei o le Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) ma le Atomic Layer Deposition (ALD), lea e taua tele ai le mama. E le gata i lea, o le maualalo o le outgassing a le SiC ma le maualuga o le tete'e atu i le plasma e fa'amautinoa ai le fa'atinoga fa'atuatuaina i totonu o potu e fa'amama ai le ea, fa'alauteleina ai le umi o le ola o meafaigaluega ma fa'aitiitia ai le tele o tausiga.

3. Faiga Fa'atulagaina Maualuga-Sa'o

E taua tele le sa'o ma le mautu i faiga fa'aonaponei o le taulimaina o wafer, aemaise lava i masini fa'afuainumera, siakiina, ma fa'atulagaina. O keramika SiC e matua maualalo lava le coefficient o le fa'alauteleina o le vevela ma le maualuga o le malosi, lea e mafai ai e le end effector ona fa'atumauina lona sa'o o le fausaga e tusa lava pe i lalo o le ta'amilosaga fa'avevela po'o le avega fa'amekanika. O lenei mea e fa'amautinoa ai o lo'o tumau pea le sa'o o wafers i le taimi o felauaiga, fa'aitiitia ai le lamatiaga o micro-scratches, misalignment, po'o mea sese o le fuaina—o mea ia e fa'ateleina le taua i sub-5nm process nodes.

Meatotino o le fa'ai'uga o le seramika SiC

1. Malosiaga ma le Faigata Maualuga o le Fa'amekanika

E matuā malosi fa'amekanika lava le SiC ceramics, e masani ona sili atu le malosi o le flexural i le 400 MPa ma e sili atu le malosi o Vickers i le 2000 HV. O lenei mea e matuā tete'e atu ai i le fa'alavelave fa'amekanika, pa'i, ma le ofuina, tusa lava pe umi se taimi e fa'aaoga ai. O le malosi tele o le SiC e fa'aitiitia ai fo'i le fa'api'opi'o i le taimi o fesiitaiga o le wafer saoasaoa maualuga, ma fa'amautinoa ai le sa'o ma le toe faia o le tulaga.

2. Mausali Lelei i le Vevela

O se tasi o meatotino sili ona tāua o keramika SiC o lo latou gafatia e tatalia ai le vevela matuā maualuga—e masani lava e oo atu i le 1600°C i le ea e lē gaoioi—e aunoa ma le leiloa o le malosi fa'amekanika. O lo latou coefficient maualalo o le fa'alauteleina o le vevela (~4.0 x 10⁻⁶ /K) e fa'amautinoa ai le mautu o le fua i lalo o le fa'ata'amilosaga o le vevela, ma avea ai ma mea lelei mo fa'aoga e pei o le CVD, PVD, ma le fa'amafanafana i le vevela maualuga.

Fesili ma Tali mo le fa'aaogaina o le pito i luga o le seramika SiC

F: O le ā le meafaitino e faʻaaogaina i le wafer end effector?

A：E masani ona faia mea e fa'aaogaina ai le uamea e maua ai le malosi tele, mautu i le vevela, ma le itiiti o le gaosia o ni vaega. O nei mea, o le keramika Silicon Carbide (SiC) o se tasi o mea sili ona fa'aonaponei ma sili ona fiafia i ai. O keramika SiC e matua malo lava, mautu i le vevela, le gaoioi i vaila'au, ma e tete'e i le ofuina, ma avea ai ma mea lelei mo le taulimaina o uamea silicon maaleale i totonu o potu mama ma siosiomaga e leai se masini e fa'amama ai. Pe a fa'atusatusa i u'amea kuata po'o u'amea ua ufiufi, e ofoina atu e le SiC le mautu lelei i le tele o le vevela i lalo o le vevela maualuga ma e le fa'a'ese'esea ai ni vaega, lea e fesoasoani e puipuia ai le fa'aleagaina.