Laina Fa'aautomatika Fa'apolopolo Feso'ota'i Fa'atasi e Fa'aaoga ai le Silicon / Silicon Carbide (SiC) Wafer (Laina Fa'aautomatika Fa'apolopolo Tuufaatasi)

O lenei Four-Stage Linked Polishing Automation Line o se fofo tuʻufaʻatasia, i totonu o le laina ua mamanuina mope a uma ona fa'apolopoloina / pe a uma ona fa'apolopoloinagaluega asilikonimasilicon carbide (SiC)falaoa manifinifi. Fausia faataamilomea e amo ai mea seramika (ipu seramika), e tuʻufaʻatasia e le faiga le tele o galuega faatino i lalo i totonu o le laina e tasi ua faʻamaopoopoina—e fesoasoani i fale gaosi oloa e faʻaitiitia ai le taulimaina o lima, faʻamautu le taimi e alu ai, ma faʻamalosia le puleaina o mea ua faʻaleagaina.

I le gaosiga o semiconductor,fa'amamāina lelei pe a uma le CMPua lauiloa lautele o se laasaga taua e faʻaitiitia ai faʻaletonu aʻo leʻi faia le isi faagasologa, ma auala faʻapitoa (e aofia aifa'amamāina megasonic) e masani ona talanoaina mo le faaleleia atili o le faatinoga o le aveeseina o vaega laiti.

Mo le SiC aemaise lava, o lonamaualuga le ma'a'a ma le le gaoioi o vaila'aue faigata ai le fa'apala'au (e masani ona fesoota'i ma le maualalo o le saoasaoa o le aveeseina o meafaitino ma le maualuga o le lamatiaga o le fa'aleagaina o le fogaeleele/lalo o le eleele), lea e matua taua ai le fa'aogaina otometi mautu pe a uma ona fa'apala'au ma le fa'amamaina/taulimaina fa'atonutonuina.