SiO2 Thin Film Thermal Oxide Silicon wafer 4inch 6inch 8inch 12inch

O le fa'agasologa autu o le gaosiga o oxidized silicon wafers e masani ona aofia ai la'asaga nei: monocrystalline silicon growth, tipi i wafers, polesi, fa'amama ma oxidation.

Monocrystalline silicon growth: Muamua, monocrystalline silicon e tupu i le maualuga o le vevela e ala i metotia e pei o le Czochralski method poʻo le Float-zone method. O lenei metotia e mafai ai ona saunia tioata taʻitasi silicon ma le mama maualuga ma le faʻamaoni lattice.

Dicing: O le silikoni monocrystalline ua tupu e masani lava i foliga fa'aa'ai ma e mana'omia ona tipiina i ni fasi ma'i manifinifi e fa'aoga e fai ma mea'ai. O le tipiina e masani lava ona faia i se tipi taimane.

Faila: O le pito i luga o le fasi falaoa tipi atonu e le tutusa ma e manaʻomia ai le faʻamalamaina faʻainisinia e maua ai se mea lamolemole.

Fa'amamāina: E fa'amamāina le fa'apolopolo fa'aiila e aveese ai mea leaga ma pefu.

Oxidizing: Ma le mea mulimuli, e tuʻuina le faʻamalo o le silicon i totonu o se ogaumu vevela maualuga mo le faʻamaʻiina o togafitiga e fausia ai se vaega puipui o le silicon dioxide e faʻaleleia ai ona eletise eletise ma le malosi faʻainisinia, faʻapea foʻi ma le avea o se faʻamaufaʻailoga i totonu o fesoʻotaʻiga tuʻufaʻatasia.

O faʻaoga autu o faʻamaʻi oxidized silicon wafers e aofia ai le gaosiga o fesoʻotaʻiga tuʻufaʻatasia, le gaosiga o sela sola, ma le gaosiga o isi masini eletise. Silicon oxide wafers o loʻo faʻaaogaina lautele i le fanua o mea semiconductor ona o latou mea faʻainisinia sili ona lelei, faʻamautu ma vailaʻau, mafai ona faʻaogaina i le maualuga o le vevela ma le maualuga o le mamafa, faʻapea foʻi ma le lelei o le insulating ma mea faʻapitoa.

O ona tulaga lelei e aofia ai se fausaga tioata atoatoa, vailaʻau faʻamaʻi mama, fua saʻo, mea faʻainisinia lelei, ma isi mea.