P-type SiC wafer 4H/6H-P 3C-N 6 inisi le mafiafia 350 μm ma le Fa'asinomaga Laulau Muamua

Fa'amatalaga Pupuu:

O le P-type SiC wafer, 4H/6H-P 3C-N, o se mea semiconductor e 6-inisi le lautele ma le mafiafia e 350 μm ma le fa'atulagaga mafolafola muamua, ua mamanuina mo fa'aoga eletise fa'apitoa. Ua lauiloa i lona maualuga o le fa'avevela, maualuga le voltage breakdown, ma le tete'e atu i le vevela tele ma siosiomaga 'ele'ele, o lenei wafer e talafeagai mo masini eletise maualuga le fa'atinoga. O le fa'apipi'iina o le P-type e fa'aofi ai pu e fai ma aveta'avale autu o le totogi, ma avea ai ma mea lelei mo eletise eletise ma fa'aoga RF. O lona fausaga malosi e fa'amautinoa ai le mautu o le fa'atinoga i lalo o tulaga maualuga-voltage ma maualuga-frequency, ma avea ai ma mea lelei mo masini eletise, eletise vevela maualuga, ma le liua o le malosi maualuga. O le fa'atulagaga mafolafola muamua e fa'amautinoa ai le sa'o o le fa'agasologa o le gaosiga, ma maua ai le tutusa i le gaosiga o masini.


Fa'aaliga

Fa'amatalaga 4H/6H-P Ituaiga SiC Composite Substrates Laulau fa'asologa masani

6 inisi le lautele o le Silicon Carbide (SiC) Substrate Fa'amatalaga

Vasega Leai se gaosiga o le MPDVasega (Z) Vasega) Gaosiga MasaniVasega (P Vasega) Vasega Fa'ata'ita'i (D Vasega)
Lapoa 145.5 mm~150.0 mm
Mafiafia 350 μm ± 25 μm
Fa'asinomaga o le Wafer -Off'au: 2.0°-4.0° agai atu i le [1120] ± 0.5° mo le 4H/6H-P, I luga o le 'au:〈111〉± 0.5° mo le 3C-N
Mafiafia o le Micropipe 0 cm-2
Tete'e ituaiga-p 4H/6H-P ≤0.1 Ωꞏcm ≤0.3 Ωꞏcm
ituaiga-n 3C-N ≤0.8 mΩꞏcm ≤1 m Ωꞏcm
Fa'asinomaga Laulau Muamua 4H/6H-P -{1010} ± 5.0°
3C-N -{110} ± 5.0°
Umi Mafolafola Autū 32.5 mm ± 2.0 mm
Umi Mafolafola Lona Lua 18.0 mm ± 2.0 mm
Fa'asinomaga Mafolafola Lona Lua Fa'asaga i luga o le Silicon: 90° CW. mai le Prime flat ± 5.0°
Tuusaunoaga o le Pito 3 milimita 6 milimita
LTV/TTV/Aufana/Vau ≤2.5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm ≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm
Fa'alavelave Polani Ra≤1 nm
CMP Ra≤0.2 nm Ra≤0.5 nm
Māvaevae o Pito i le Malamalama Malosi Leai se tasi Umi fa'aputu ≤ 10 mm, umi e tasi ≤2 mm
Papa Hex e ala i le Malamalama Malosi Maualuga Eria fa'aputu ≤0.05% Eria fa'aputu ≤0.1%
Vaega Polytype e ala i le Malamalama Malosi Maualuga Leai se tasi Eria fa'aputu ≤3%
Fa'aaofia o le Carbon Va'aia Eria fa'aputu ≤0.05% Eria fa'aputu ≤3%
Maosi o le Silikon i le Malamalama Malosi Leai se tasi Umi fa'aputu ≤1 × lautele o le wafer
Fa'amamago Maualuga le Pito i le Malamalama Malosi E leai se mea e fa'atagaina ≥0.2mm le lautele ma le loloto 5 fa'atagaina, ≤1 mm ta'itasi
Fa'aleagaina o le Silikon i luga e ala i le malosi tele Leai se tasi
Afifiina Kaseti Wafer e tele pe Pusa Wafer e tasi

Fa'amatalaga:

※ E fa'atatau tapula'a o fa'aletonu i le fogāeleele atoa o le wafer vagana ai le vaega e le aofia ai pito. # E tatau ona siaki ia maosi i luga o le Si fa'atafafā o

O le P-type SiC wafer, 4H/6H-P 3C-N, faatasi ai ma lona tele e 6-inisi ma le mafiafia e 350 μm, e taua tele lona sao i le gaosiga faapisinisi o mea eletise eletise e maualuga le faatinoga. O lona lelei tele o le conductivity thermal ma le maualuga o le breakdown voltage e fetaui lelei mo le gaosiga o vaega e pei o power switches, diodes, ma transistors e faaaogaina i siosiomaga e maualuga le vevela e pei o taavale eletise, power grids, ma faiga o le malosiaga faafouina. O le gafatia o le wafer e faagaoioi lelei i tulaga faigata e mautinoa ai le faatuatuaina o le faatinoga i galuega faapisinisi e manaomia ai le maualuga o le malosiaga ma le lelei o le malosiaga. E le gata i lea, o lona tulaga mafolafola autu e fesoasoani i le faatulagaina sa'o i le taimi o le gaosiga o masini, faaleleia atili ai le lelei o le gaosiga ma le tutusa o oloa.

O fa'amanuiaga o mea fa'apipi'i SiC ituaiga-N e aofia ai

  • Fa'avevela MaualugaE fa'aitiitia lelei e wafers SiC ituaiga-P le vevela, ma avea ai ma mea lelei mo fa'aoga i le vevela maualuga.
  • Voltage Malepelepe MaualugaE mafai ona tatalia le maualuga o le voltage, ma mautinoa ai le faʻatuatuaina i masini eletise ma masini maualuga le voltage.
  • Tete'e i Siosiomaga Faigata: Tumau lelei i tulaga faigata, e pei o le vevela maualuga ma siosiomaga e 'aina.
  • Suiga Lelei o le MalosiagaO le fa'aogaina o le ituaiga-P e fa'afaigofie ai le fa'aaogaina lelei o le eletise, ma avea ai le wafer ma mea e talafeagai mo faiga e liua ai le malosi.
  • Fa'asinomaga Laulau Muamua: Mautinoa le sa'o lelei o le fa'atulagaina i le taimi o le gaosiga, fa'aleleia atili ai le sa'o ma le tutusa o le masini.
  • Fausaga Manifi (350 μm)O le mafiafia sili ona lelei o le wafer e lagolagoina ai le tuʻufaʻatasia i totonu o masini eletise faʻaonaponei ma faʻatapulaʻaina i le avanoa.

I le aotelega, o le P-type SiC wafer, 4H/6H-P 3C-N, e ofoina atu ai le tele o faʻamanuiaga e matua talafeagai ai mo galuega faʻapisinisi ma mea faʻaeletoronika. O lona maualuga o le thermal conductivity ma le breakdown voltage e mafai ai ona faʻagaoioia ma le faʻatuatuaina i siosiomaga maualuga le vevela ma le maualuga o le voltage, aʻo lona teteʻe atu i tulaga faigata e faʻamautinoa ai le tumau. O le P-type doping e mafai ai ona faʻaliliuina lelei le eletise, ma avea ai ma mea lelei mo eletise eletise ma faiga faʻaeletoronika. E le gata i lea, o le faʻatulagaina muamua o le wafer e faʻamautinoa ai le saʻo lelei i le taimi o le gaosiga, ma faʻaleleia atili ai le tutusa o le gaosiga. Faatasi ai ma le mafiafia o le 350 μm, e matua fetaui lelei mo le tuʻufaʻatasia i masini faʻaonaponei ma laiti.

Ata Auiliili

b4
b5

  • Muamua:
  • Sosoo ai:

  • Tusi lau savali iinei ma lafo mai ia i matou